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NS200國產(chǎn)臺階儀能夠測量幾個納米到330μm的臺階高度。這使其可以準確測量在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料；可以測量表面的2D形狀或翹曲。也能夠測量在生產(chǎn)中包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件所產(chǎn)生的應(yīng)力。
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